[برق و الکترونیک] نیمرسانای اکسید فلزی عمودی فناوری MOS که در آن چهار لایه در سیلیسیم نفوذ داده می شوند و یک شیار V شکل برای کنترل دقیق عمق لایه ها در آن زدوده می شود . سپس فلز روی دی اکسید سیلیسیم در شیار نشانده می شود تا الکترود گیت را تشکیل دهد. اکنون این فناوری منسوخ شده است.
