cvd

کلمات اختصاری

عبارت کامل: Chemical Vapor Deposition
موضوع: علمی
انباشت به روش تبخیر شیمیایی یا رسوب شیمیایی فاز بخار (CVD) یکی از روش های شیمیایی ست که در تولید لایه های بسیار خالص میکروبلورین در فناوری نیم رساناها به کار می رود.

غالباً انباشت روی زیر لایه ای از ماده مشابه (مانند سیلیسیم روی سیلیسم)انجام می شود. این انباشت ممکن است از طریق چند نوع واکنش شیمیایی انجام شود: گرماکافت که در آن از دمای زیاد برای تجزیه ماده استفاده می شود. نورکافت که در آن از نور فرابنفش یا فروسرخ برای تجزیه ترکیب های گازی استفاده می شود.

تخصصی

[برق و الکترونیک] chemical -vapor deposition-نشست بخار شیمیایی فرایند پوشاندن ماده از طریق گرم کردن آن تا نقطه ی ذوب در محفظه خلأ و تزریق گازهایی به داخل محفظه که توسط جسم جذب شده و به آن می چسبد . از این فرایند برای آلایش نیمه رساناها با اتمهای دهنده یا پذیرنده و تغییر مشخصات الکتریکی آنها استفاده می شود. برای تشکیل لایه های فلزی یا اکسید نیز به کار می رود.

پیشنهاد کاربران

بپرس